W/Ti/Cr等の薄膜作製に適したマグネトロンタイプ。マイコン制御/自動シャッター標準装備。
特長
- W(タングステン)/Ni(ニッケル)/Cr(クロム)/Ti(チタン)等の成膜に対応したDCスパッタ装置
- マグネトロンカソード採用
- マイコン搭載で成膜プロセスを高精度にコントロール
- 操作方法はフルオート/マニュアルの2モード
- 自動シャッター機構を標準装備
用途・実績例
- W/Ni/Cr/Ti 等の成膜
- 燃料電池用基礎実験
基本仕様
| カソード | φ2インチ マグネトロンカソード |
| シャッター機構 | オート / マニュアル操作 |
| ガス導入機構 | ニードルバルブ （オート / マニュアル制御） |
| 真空ポンプ | 直結型ロータリーポンプ:100l/min（自動リーク付） |
| チャンバーサイズ | 内径φ160mm×D160mm (SUS 製) |
| 試料交換方法 | 前面ドア開閉式 |
| 寸法 (W/D/H) | 本体:360/360/260mm RP:174/460/264mm |
| 重量 | 本体:20kg RP:23kg |