お使いのSEMの機能を損なうことなく電子線描画が可能。
特長
- アドオンスタイルのEBリソグラフィ用パターン発生装置 ⇒ 様々なタイプのSEMに取付けることが可能です。
- 市販CADの採用により浮かんだアイデアをすぐさま形にできる使いやすさ
- 電子線描画専用機を扱うときのような専門知識/熟練技術を必要としないため、どなたでも気軽にパターンをつくることができます。
- 広域エリア(最大2.5mm□/ブロックスキャン方式)の一括露光を実現
描画データ例
基本仕様
| 描画方式 | ラスタースキャン方式/ブロックスキャン方式 | |
| スキャンスピード (ドーズタイム) |
0.5～10,000μsec/ピクセル (設定単位：0.1μsec/ピクセル) |
|
| 描画ピクセル数 | ラスタースキャン方式 | ブロックスキャン方式 |
| 1,000×1,000 2,000×2,000 4,000×4,000 5,000×5,000 10,000×10,000 |
1,000×1,000 | |
| 描画フィールド | 50μm□/100μm□/ 200μm□/500μm□ |
2,500μm□ 1ブロック＝2.5μm□ (SEM仕様による) |
機器構成
| 品名 | パターン発生装置 |
| 形式 | SPG-724 |
| 機器構成 | パターン発生装置本体 ソフトウェア PC |
| 用途 | ・EB描画パターンを作成し、このパターン通りにビーム制御するための装置 ・描画制御ソフトウエア、図形データ作成ソフトウエア |
| 品名 | ブランキングユニット |
| 形式 | PG-BBD |
| 機器構成 | ブランキング電極 ドライバ 200V電源 |
| 用途 | ・描画命令に従ってビームブランキングを行なう装置 ・鏡筒に電極を挿入する必要があり、PCDポートを利用する |
| 品名 | 吸収電流計 |
| 形式 | PG-AEM |
| 機器構成 | 電流計本体 |
| 用途 | ・pA~nAオーダの電流計 ・試料に照射される電流量をモニターする |
オプション
- 高精度ステージ（制御ソフトウェア含）
- 高安定化偏向アンプ