更にコンパクトになったデスクトップRFスパッタ
特長
- φ2インチ×３源ながら全ユニットがデスクトップ上におさまります（※粗引用ポンプは床置き）
- コストパフォーマンスと省スペースに優れる
- 当社得意のイージーオペレーター
- 多層膜作製に対応
基本仕様
| SVC-700RFⅢ | |
| スパッタ方式 | RFマグネトロンスパッタ方式 |
| スパッタカソード |
φ2インチ×3源/水冷式 スパッタアップ |
| スパッタ電源 |
RF 電源 13.56MHz Max. 200W 手動式マッチングユニット付 |
| 試料サイズ | Max. φ2インチ |
| チャンバー |
内径φ185mm×H175mm SUS製 冷却ジャケット付 上蓋開閉方式 試料台 高さ方向可変（オプション：基板加熱ユニット） |
| 排気系 |
ターボ分子ポンプ（TMP） 67L/sec（@N2） 油回転ポンプ（RP） 20L/min 直結型/RP 自動リーク弁付 |
| メインバルブ | 手動式バタフライバルブ |
| 到達真空度 | 10-4Pa台 |
| 真空計 | コンビネーション型真空計（イオンゲージ＋ビラニーゲージ） |
| ガス導入 |
マスフローコントローラー Ar:30sccm 1系統 標準（3系統まで増設可） |
| 寸法/重量 |
SVC-700RFⅢ（制御ユニット） W370/D310/H195mm 5kg RF CONTROL UNIT W370/D310/H158mm 10kg チャンバーユニット W370/D540/H400mm 30kg ロータリーポンプ W156/D295.5/H199.5mm 9kg |
| 所要電源 | AC100V 50/60Hz 15A １系統 3pin プラグ |
オプション
- 基板加熱ユニット（300℃/600℃タイプ）
- 基板回転ユニット
- 水晶振動子式膜厚モニター
- ガス導入機構追加